電去離子「EDI」系統主假如在直流電場的效用下⒔⒕⒖⒗⒘⒙⒚⒛ⅠⅡⅢⅣⅤⅥⅦⅧⅨⅩⅪⅫⅰⅱ,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動❣❦❧♡۵,利用交換膜對離子的選擇透過效用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術⒃⒄⒅⒆⒇⒈⒉⒊⒋⒌⒍⒎⒏⒐⒑⒒⒓。...
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電去離子系統的效用是精除鹽ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ。在利用RO滲透水脫除97~99%離子的条件下⓱⓲⓳⓴⓵⓶⓷⓸⓹⓺⓻⓼⓽⓾,EDI可直接反滲透產水提純到純水✵✶✷✸✹✺✻✼❄❅、高純水❋❀⚘☑✓✔√☐☒✗✘ㄨ✕✖✖⋆✢✣、超純水的標準ⅲⅳⅴⅵⅶⅷⅸⅹⒶⒷⒸⒹ,而無需利用離子交換混床✤✥❋✦✧✩✰✪✫✬✭✮✯❂✡★✱✲✳✴,其產水的電阻率最高可達18MΩ·cmⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ。...
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獨特的設計⑰⑱⑲⑳⓪⓿❶❷❸❹❺,使進水通過填充有可重生樹脂的淡水室♦☜☞☝✍☚☛☟✌✽✾✿❁❃,使水中雜質離子被樹脂吸附ⒺⒻⒼⒽⒾⒿⓀⓁⓂⓃⓄⓅⓆⓇⓈⓉ,從而得到純化水♀☿☼☀☁☂☄。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的重生ⓊⓋⓌⓍⓎⓏⓐⓑⓒⓓⓔⓕⓖⓗⓘⓙ,是以保持活性♀☿☼☀☁☂☄。而釋放的雜質離子在直流電場的作用下♦☜☞☝✍☚☛☟✌✽✾✿❁❃,定向移動⒃⒄⒅⒆⒇⒈⒉⒊⒋⒌⒍⒎⒏⒐⒑⒒⒓,通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走ⓊⓋⓌⓍⓎⓏⓐⓑⓒⓓⓔⓕⓖⓗⓘⓙ。...
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拋光混床的樹脂是不能新生重復利用的ⅲⅳⅴⅵⅶⅷⅸⅹⒶⒷⒸⒹ。拋光混床稱一次性混床一般情況用在工藝最后☾☽❄☃,用來進一步提高產水水質ⓚⓛⓜⓝⓞⓟⓠⓡⓢ。為獲得電子☧☬☸✡♁✙♆。,、':∶;、醫藥或其他行業用電導率0.055μS/cm的理論純水✵✶✷✸✹✺✻✼❄❅,在普通混床或EDI凈水設備后❻❼❽❾❿⓫⓬⓭⓮⓯⓰,裝設拋光混床進行的精處理ⓊⓋⓌⓍⓎⓏⓐⓑⓒⓓⓔⓕⓖⓗⓘⓙ。...
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獨特的設計⒔⒕⒖⒗⒘⒙⒚⒛ⅠⅡⅢⅣⅤⅥⅦⅧⅨⅩⅪⅫⅰⅱ,使進水通過填充有可重生樹脂的淡水室⓱⓲⓳⓴⓵⓶⓷⓸⓹⓺⓻⓼⓽⓾,使水中雜質離子被樹脂吸附ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ,從而得到純化水☧☬☸✡♁✙♆。,、':∶;。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的重生⒥⒦⒧⒨⒩⒪⒫⒬⒭⒮⒯⒰⒱⒲⒳⒴⒵❆❇❈❉❊†☨✞✝☥☦☓☩☯,是以保持活性⒔⒕⒖⒗⒘⒙⒚⒛ⅠⅡⅢⅣⅤⅥⅦⅧⅨⅩⅪⅫⅰⅱ。而釋放的雜質離子在直流電場的作用下✤✥❋✦✧✩✰✪✫✬✭✮✯❂✡★✱✲✳✴,定向移動ⅲⅳⅴⅵⅶⅷⅸⅹⒶⒷⒸⒹ,通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走♦☜☞☝✍☚☛☟✌✽✾✿❁❃。...
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我司生產的超纯水设施出水水質相符美國ASTM純水水質標準ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ、我國電子工業部電子級水質技術標準ⒺⒻⒼⒽⒾⒿⓀⓁⓂⓃⓄⓅⓆⓇⓈⓉ、我國電子工業部高純水水質試行標準☈⊙☉℃℉❅、美國半導體工業用純水指標♀☿☼☀☁☂☄、日本集成電路水質標準⒔⒕⒖⒗⒘⒙⒚⒛ⅠⅡⅢⅣⅤⅥⅦⅧⅨⅩⅪⅫⅰⅱ、國內外大規模集成電路水質標準ⓊⓋⓌⓍⓎⓏⓐⓑⓒⓓⓔⓕⓖⓗⓘⓙ。...
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電子超纯水设施出水水質相符美國ASTM純水水質標準✵✶✷✸✹✺✻✼❄❅、我國電子工業部電子級水質技術標準「18MΩ.cmⅲⅳⅴⅵⅶⅷⅸⅹⒶⒷⒸⒹ、15MΩ.cm☧☬☸✡♁✙♆。,、':∶;、10MΩ.cm♦☜☞☝✍☚☛☟✌✽✾✿❁❃、2MΩ.cmⓚⓛⓜⓝⓞⓟⓠⓡⓢ、0.5MΩ.cm五級標準」ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ、我國電子工業部高純水水質試行標準㈠㈡㈢㈣㈤㈥㈦、美國半導體工業用純水指標⒥⒦⒧⒨⒩⒪⒫⒬⒭⒮⒯⒰⒱⒲⒳⒴⒵❆❇❈❉❊†☨✞✝☥☦☓☩☯、日本集成電路水質標準ⒺⒻⒼⒽⒾⒿⓀⓁⓂⓃⓄⓅⓆⓇⓈⓉ、國內外大規模集成電路水質標準✵✶✷✸✹✺✻✼❄❅。
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半導體超纯水设施是應用于半導體生產零件清洗的超纯水设施⒥⒦⒧⒨⒩⒪⒫⒬⒭⒮⒯⒰⒱⒲⒳⒴⒵❆❇❈❉❊†☨✞✝☥☦☓☩☯,需要合适特定的用水水質標準㊀㊁㊂㊃㊄㊅㊆㊇㊈㊉,半導體超纯水设施出水水質要合适美國ASTM純水水質標準❋❀⚘☑✓✔√☐☒✗✘ㄨ✕✖✖⋆✢✣、我國電子工業電子級水質技術標準18MΩ.cm以上☾☽❄☃。..
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EDI是一種將離子交換技術「電滲析」✤✥❋✦✧✩✰✪✫✬✭✮✯❂✡★✱✲✳✴、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術❻❼❽❾❿⓫⓬⓭⓮⓯⓰。它將電滲析和離子交換技術相結合ⓚⓛⓜⓝⓞⓟⓠⓡⓢ,运用兩端電極高壓使水中帶電離子移動⒥⒦⒧⒨⒩⒪⒫⒬⒭⒮⒯⒰⒱⒲⒳⒴⒵❆❇❈❉❊†☨✞✝☥☦☓☩☯,并协同離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除☾☽❄☃,從而達到水純化的目的㈧㈨㈩⑴⑵⑶⑷⑸⑹⑺⑻⑼⑽⑾⑿⒀⒁⒂。...
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